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鈦的化學(xué)性質(zhì)

[ 信息發(fā)布:管理員 | 發(fā)布時(shí)間:2017-06-24 | 瀏覽:1249次 ]

鈦在較高的溫度下,可與許多元素和化合物發(fā)生反應(yīng)。各種元素,按其與鈦發(fā)生不同反應(yīng)可分為四類:

  第一類:鹵素和氧族元素與鈦生成共價(jià)鍵與離子鍵化合物;
  第二類:過渡元素、氫、鈹、硼族、碳族和氮族元素與鈦生成金屬間化物和有限固溶體;
  第三類:鋯、鉿、釩族、鉻族、鈧元素與鈦生成無限固溶體;
  第四類:惰性氣體、堿金屬、堿土金屬、稀土元素(除鈧外),錒、釷等不與鈦發(fā)生反應(yīng)或 基本上不發(fā)生反應(yīng)。

與化合物的反應(yīng):

◇ HF和氟化物

  氟化氫氣體在加熱時(shí)與鈦發(fā)生反應(yīng)生成TiF4, 反應(yīng)式為(1);不含水的氟化氫液體可在鈦表面上生成一層致密的四氟化鈦膜,可防止HF浸入鈦的內(nèi)部。氫氟酸是鈦的最強(qiáng)熔劑。即使是濃度為1%的氫氟酸,也能與鈦發(fā)生激烈反應(yīng),見式(2);無水的氟化物及其水溶液在低溫下不與鈦發(fā)生反應(yīng),僅在高溫下熔融的氟化物與鈦發(fā)生顯著反應(yīng)。
Ti+4HF=TiF4+2H2+135.0千卡 (1)2Ti+6HF=2TiF4+3H2 (2)

◇ HCl和氯化物

  氯化氫氣體能腐蝕金屬鈦,干燥的氯化氫在>300℃時(shí)與鈦反應(yīng)生成TiCl4,見 式(3);濃度<5%的鹽酸 在室溫下不與鈦反應(yīng),20%的鹽酸在常溫下與鈦發(fā)生瓜在生成紫色的TiCl3,見式(4);當(dāng)溫度長高時(shí),即使稀鹽酸也會(huì)腐蝕鈦。各種無水的氯化物,如鎂、錳、鐵、鎳、銅、鋅、汞、錫、鈣、鈉、鋇和NH4離子及其水溶液,都不與鈦發(fā)生反應(yīng),鈦在這些氯化物中具有很好的穩(wěn)定性。
Ti+4HCl=TiCl4+2H2+94.75千卡 (3)2Ti+6HCl=TiCl3+3H2 (4)

◇ 硫酸和硫化氫

  鈦與<5%的稀硫酸反應(yīng)后在鈦表面上生成保護(hù)性氧化膜,可保護(hù)鈦不被稀酸 繼續(xù)腐蝕。但>5%的硫酸與鈦有明顯的反應(yīng),在常溫下,約40%的硫酸對鈦的腐蝕速度最快,當(dāng)濃度大于40%,達(dá)到60%時(shí)腐蝕速度反而變慢,80%又達(dá)到最快。加熱的稀酸或50%的濃硫酸可與鈦反應(yīng)生成硫酸鈦,見式(5),(6),加熱的濃硫酸可被鈦還原,生成SO2,見式(7)。常溫下鈦與硫化氫反應(yīng),在其表面生成一層保護(hù)膜,可阻止硫化氫與鈦的進(jìn)一步反應(yīng)。但在高溫下,硫化氫與鈦反應(yīng)析出氫,見式(8),粉末鈦在600℃開始與硫化氫反應(yīng)生成鈦的硫化物,在900℃時(shí)反應(yīng)產(chǎn)物主要為TiS,1200℃時(shí)為Ti2S3。
Ti+H2SO4=TiSO4+H2 (5) 2Ti+3H2SO4=Ti2(SO4)3+H2 (6)
2Ti+6H2SO4=Ti2(SO4)3+3SO2+6H2O+202千卡 (7)Ti+H2S=TiS+H2+70千卡(8)

◇ 硝酸和王水 致密的表面光滑的鈦對硝酸具有很好的穩(wěn)定性,這是由于硝酸能快速在鈦表面生成一層牢固的氧化膜,但是表面粗糙,特別是海綿鈦或粉末鈦,可與次、熱稀硝酸發(fā)生反應(yīng),見式(9)、(10),高于70℃的濃硝酸也可與鈦發(fā)生反應(yīng),見式(11);常溫下,鈦不與王水反應(yīng)。溫度高時(shí),鈦可與王水反應(yīng)生成TiCl2。
3Ti+4HNO3+4H2O=3H4TiO4+4NO (9)3Ti+4HNO3+H2O=3H2TiO3+4NO (10)
Ti+8HNO3=Ti(NO3)4+4NO2+4H2O (11)

 綜上所述,鈦的性質(zhì)與溫度及其存在形態(tài)、純度有著極其密切的關(guān)系。致密的金屬鈦在自然界中是相當(dāng)穩(wěn)定的,但是,粉末鈦在空氣中可引起自燃。鈦中雜質(zhì)的存在,顯著的影響鈦的物理、化學(xué)性能、機(jī)械性能和耐腐蝕性能。特別是一些間隙雜質(zhì),它們可以使鈦晶格發(fā)生畸變,而影響鈦的的各種性能。常溫下鈦的化學(xué)活性很小,能與氫氟酸等少數(shù)幾種物質(zhì)發(fā)生反應(yīng),但溫度增加時(shí)鈦的活性迅速增加,特別是在高溫下鈦可與許多物質(zhì)發(fā)生劇烈反應(yīng)。鈦的冶煉過程一般都在800℃以上的高溫下進(jìn)行,因此必須在真空中或在惰性氣氛保護(hù)下操作。
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